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SUBSTRATOS

Fornecemos uma grande variedade de substratos para deposição de filmes finos, sejam eles orientados (monocristais) ou não. Tais substratos são produzidos através das mais avançadas técnicas de fabricação, como os métodos Czochralski, arc melting, blaze, Kyropoulos, float-zone, hidrotérmico, dentre outros. A depender do tipo de material, nossa equipe avalia a técnica mais apropriada a ser empregada.

De acordo com a nossa capacidade de produção, podemos fornecer substratos com as seguintes características:

  • Formatos: redondos ou retangulares

  • Polimento: sem polimento, 1 lado polido ou os 2 lados polidos

  • Rugosidade superficial: mínima de 0,5 nm (depende do material)

  • Espessura: mínima de 300 nm (depende do material)

  • Orientação: <001>, <100>, <110>, <111>, <0001> e não orientados

  • Tipo de condução: P, N, Intrínseco (para semicondutores)

  • Resistividade: wafers de silício (0.001-0.005 ohm*cm, 1-10 ohm*cm, > 1000 ohm*cm)

  • Miscut angle: conforme solicitação

Veja a seguir, uma relação com alguns dos principais tipos de substratos que podemos fornecer (outros podem ser solicitados):

LaAlO3       LSAT       SrTiO3 (STO)       MgO       YSZ       KTaO3       SrLaAlO4       YAlO3       MgAl2O4     (LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO8)0.7 

 

Nb:SrTiO3       Fe:SrTiO3       Nd:SrTiO3       Al2O3       MgAl2O4       GGG (Gd3Ga5O12)       TiO2       TGG       Si       GaAs      LiAlO2

 

MgAl2O4       SiC       ZnO       GaN       Ge       InP       InAs       GaSb       ZnSe       LnNbO3       LiTaO3       SiO2       TeO2       TiO2 

 

CaF2       MgF2       BaF2       LiF       Ti:Al2O3       Cr:Al2O3       Nd:YAG       Nd:YVO4       Nd:YLF       Yb:YAP       Cr:YAG       NaCl

 

KCl       KBr       Safira       ITO       FTO       Vidros K7 e K9

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