SUBSTRATOS

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Fornecemos uma grande variedade de substratos para deposição de filmes finos, sejam eles orientados (monocristais) ou não. Tais substratos são produzidos através das mais avançadas técnicas de fabricação, como os métodos Czochralski, arc melting, blaze, Kyropoulos, float-zone, hidrotérmico, dentre outros. A depender do tipo de material, nossa equipe avalia a técnica mais apropriada a ser empregada.

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De acordo com a nossa capacidade de produção, podemos fornecer substratos com as seguintes características:

• Formatos: redondos ou retangulares

• Polimento: sem polimento, 1 lado polido ou os 2 lados polidos

• Espessura: mínima de 0,3 mm (depende do material)

• Orientação: <001>, <100>, <110>, <111>, <0001> e não orientados

• Tipo de condução: P, N, Intrínseco (para semicondutores)

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Veja a seguir, uma relação com os principais tipos de substratos que podemos fornecer (outros podem ser solicitados):

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LaAlO3,  LSAT,  SrTiO3,  MgO,  YSZ,  KTaO3,  SrLaAlO4,  YAlO3,  MgAl2O4,  (LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO8)0.7,  SrTiO3,  Nb:SrTiO3,
 

Fe:SrTiO3,  Nd:SrTiO3,  Al2O3,  MgAl2O4,  GGG,  TiO2,  TGG,  Si,  GaAs,  LiAlO2,  MgAl2O4,  SiC,  ZnO,  GaN,  Ge,  InP,  InAs, 

 

GaSb,  ZnSe,  LnNbO3,  LiTaO3,  SiO2,  TeO2,  TiO2,  CaF2,  MgF2,  BaF2,  LiF,  Ti:Al2O3,  Cr:Al2O3,  Nd:YAG,  Nd:YVO4,  Nd:YLF, 

 

Yb:YAP,  Cr:YAG,  NaCl,  KCl,  KBr