SUBSTRATOS
Fornecemos uma grande variedade de substratos para deposição de filmes finos, sejam eles orientados (monocristais) ou não. Tais substratos são produzidos através das mais avançadas técnicas de fabricação, como os métodos Czochralski, arc melting, blaze, Kyropoulos, float-zone, hidrotérmico, dentre outros. A depender do tipo de material, nossa equipe avalia a técnica mais apropriada a ser empregada.
De acordo com a nossa capacidade de produção, podemos fornecer substratos com as seguintes características:
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Formatos: redondos ou retangulares
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Polimento: sem polimento, 1 lado polido ou os 2 lados polidos
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Rugosidade superficial: mínima de 0,5 nm (depende do material)
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Espessura: mínima de 300 nm (depende do material)
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Orientação: <001>, <100>, <110>, <111>, <0001> e não orientados
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Tipo de condução: P, N, Intrínseco (para semicondutores)
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Resistividade: wafers de silício (0.001-0.005 ohm*cm, 1-10 ohm*cm, > 1000 ohm*cm)
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Miscut angle: conforme solicitação
Veja a seguir, uma relação com alguns dos principais tipos de substratos que podemos fornecer (outros podem ser solicitados):
LaAlO3 LSAT SrTiO3 (STO) MgO YSZ KTaO3 SrLaAlO4 YAlO3 MgAl2O4 (LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO8)0.7
Nb:SrTiO3 Fe:SrTiO3 Nd:SrTiO3 Al2O3 MgAl2O4 GGG (Gd3Ga5O12) TiO2 TGG Si GaAs LiAlO2
MgAl2O4 SiC ZnO GaN Ge InP InAs GaSb ZnSe LnNbO3 LiTaO3 SiO2 TeO2 TiO2
CaF2 MgF2 BaF2 LiF Ti:Al2O3 Cr:Al2O3 Nd:YAG Nd:YVO4 Nd:YLF Yb:YAP Cr:YAG NaCl
KCl KBr Safira ITO FTO Vidros K7 e K9
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